芯片参考图一致性与参数控制
给芯片参考图与改图目标,产出重绘强度与保持禁止项清单
适用场景
- 芯片产品图改版一致性控制
- 多版本配图批量生成
- 参考图风格迁移测试
PROMPT
【主体】 1. 一枚服务器 CPU,深绿基板配银色金属顶盖,四角各一颗螺孔。 2. 顶盖有细微拉丝,丝印为浅灰细字,不要求可读。 3. 基板边缘密布贴片电容,排列整齐无缺失。 【风格】 1. 半导体产品微距摄影,参照芯片厂商的官方产品图。 2. 影调偏冷,背景纯黑,主体高光克制。 3. 不做发光特效,不加电路光路与数据流光。 【构图】 1. 1:1 正方形,芯片占画面七成,居中。 2. 正面俯拍,四边与画幅平行,不做任何旋转。 3. 四周留黑,边缘不留反光带与倒影。 【光线】 1. 顶部同轴光压平顶盖,避免出现高光斑。 2. 两侧低角度条光勾出基板厚度,色温 6500K。 3. 明暗差三档,暗部仍保留元件轮廓。 【镜头】 1. 等效 100mm 微距,机位距芯片 35 厘米。 2. 光圈 f/13,四角螺孔与边缘电容全部清晰。 3. 焦点落在顶盖中心,丝印边缘不发虚。 【画质】 1. 4000×4000 输出,比例 1:1。 2. 保留顶盖拉丝、基板纹路与元件焊点。 3. 后期不加过冲锐化,不出现彩色摩尔纹。
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